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付绍军
单位:国家同步辐射实验室
地址:合肥市第6022信箱
邮编:230029
电话:+86-551-3602013
个人主页: http://dsxt.ustc.edu.cn/zj_js.asp?zzid=91
实验室介绍:
 
个人简历 Personal resume
    付绍军,男,1952年10月出生。1977年中国科技大学物理系毕业,同时留校从事教学和科研工作。1984年初从物理系调入国家同步辐射实验室,1998年被聘为教授级高级工程师,2000年担任博士生导师。 现任《光学精密工程》杂志编委、国家XX科技重大专项专家组成员和中科院高功率激光物理重点实验室学术委员会委员。

    1989年起负责建设同步辐射光学实验室,在短波光学、微光学技术和超微细加工技术研究方面取得了一系列成果。率先在国内组织开展了软X射线和真空紫外波段的衍射元件研究工作,研制的软X射线聚焦波带片、软X射线位相型Lnminar光栅和真空紫外全息-离子束刻蚀闪耀光栅已经达到实用水平,替代进口产品使用在同步辐射光束线上;研制的一系列无衬底自支撑的软X射线透射光栅已在惯性约束激光核聚变研究中发挥了重要作用。在国内外学术刊物上合作发表论文200多篇,获省部级成果奖4项,申请和授权国家发明专利20项。目前承担国家重大科技专项XX专项、军口863等科研项目多项。已培养硕士8名、博士23名;现有8名博士生、6名硕士生在指导中。

 
研究方向 Research direction
1、衍射光栅技术
2、微细加工技术
 
招生信息 Enrollment information
考生知识背景:物理光学(主要)和应用光学
 
论文专著 The monograph
1) Soft X-ray holographic grating beam splitter including a double frequency grating forinterferometer pre-alignment - Optics Express, - 2008 - Volume 16
2) Vacuum–ultraviolet blazed silicon grating anisotropically etched by native-oxide mask - OPTICS LETTERS - 2009 - Vol. 34, No.8
3) 真空紫外硅闪耀光栅的制作 - 光学精密工程 - 2010 - 2010年第一期
4) Fabrication of micronano fluidic system combining hybrid mask-mould - Microelectronic Engineering - 2010 - 87 (2010) 722–725
5) SiC/W/Ir multilayer-coated grating for enhanced efficiency in 50-100nm wavelength range in Seya-Namioka mount - OPTICS LETTERS - 2011 - Vol.36,No.2
6) Dual-reflector configuration in varied line-space grating displacement sensor - Rev. Sci. Instrum - 2008 - Volume 79
7)  Reflective performance of Ir film in vacuumultraviolet wavelength region - Applied Optics - 2008 - Volume 47
8) Free-standing SU-8 subwavelength gratings fabricated by UV curing imprint - Microelectronic Engineering - 2008 - Volume 85
9) 衍射光学元件的扫描刻蚀深度在线检测 - 《微细加工技术》 - 2008 - No.4
10) Si基片上Au膜真空紫外反射特性研究 - 《真空科学与技术学报》 - 2008 - Vol. 28
11) 软X射线位相型金透射光栅的设计与制作 - 《物理学报》 - 2008 - Vol.57,No.10
12) 变栅距光栅光谱分辨研究 - 《光学精密工程》 - 2008 - Vol.16,No.7
13) 电子束蒸发沉积I r膜真空紫外反射特性 - 《光学学报》 - 2008 - Vol.28,No.10
14) 国家同步辐射实验室反射率计误差分析 - 《光学学报》 - 2008 - Vol.28,No.11
 
报考意向 Ambition
 
 
 

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